Revision des Gebrauchsmuster-Systems im Jahre 2005 in Japan
Das japanische Gebrauchsmustersystem wurde mit Wirkung ab 1.4.2005 erheblich revidiert. Die Schutzdauer von Gebrauchsmustern wurde von 6 auf 10 Jahre ab Anmeldetag verlängert und die Jahresgebühren für die Aufrechterhaltung deutlich herabgesetzt. Gebrauchsmuster-Registrierungen können nun innerhalb von drei Jahren ab Anmeldetag in eine Patentanmeldung umgewandelt werden. Außerdem wurde der Umfang zulässiger Änderungen an Gebrauchsmustern erheblich erweitert. Der Artikel geht im Detail auf diese Änderungen ein.
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